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Hochreine elektronische Chemikalie bezieht sich im Allgemeinen auf die speziellen Chemikalien und chemischen Materialien, die in der Elektronikindustrie verwendet werden, d. h. elektronische Komponenten, Leiterplatten, alle Arten von Chemikalien und Materialien für die Herstellung und Verpackung von industriellen und Verbraucher-Komplettmaschinen. Es kann in Substrate, Photoresiste, Galvanikchemikalien, Verpackungsmaterialien, hochreine Reagenzien, Spezialgase, Lösungsmittel, Dopants vor der Reinigung, Flussmittel, Säuren und korrosive Mittel, elektronische Klebstoffe und Hilfsstoffe unterteilt werden. Der größte Wert hochreiner elektronischer Chemikalien liegt in ihrer hohen Reinheit, und je höher die Reinheit, desto höher der Wert. Um die hohe Reinheit der elektronischen Chemikalien zu erreichen (Verunreinigungen bei 10ppb), ist es daher schwierig, das Restmetall und die organischen Verunreinigungen in den Chemikalien zu entfernen.
Um die technologische Innovation und den Fortschritt elektronischer Chemikalien zu fördern, hat sich Si-Novation verpflichtet, Ihnen professionelle Dienstleistungen zur Beseitigung von elektronischen Chemikalien zur Beseitigung von Verunreinigungen zu bieten, wodurch Schwermetalle, Alkalimetalle und andere Metallverunreinigungen und organische Verunreinigungen effektiv entfernt werden.
Derzeit werden die Reinigungsserien des Si-Novation häufig in der heimischen Halbleiter-Diskrete-Industrie, in großen integrierten Schaltungen, in der Verarbeitung von Silizium-Materialien und in der Flachbildschirmindustrie eingesetzt. Insbesondere für die hochreine Reinigung der Elektronischen Chemikalien der Serien RM-A und RM-B hat sie den inländischen Rohling gefüllt und einige Importe ersetzt und ist bei vielen großen Mikroelektronikunternehmen ausgereift.
Die Reinigungsserien produkte der Si-Novation mit hoher Reinheit können das erwartete Reinigungsziel ohne Verlust von Kundenprodukten und Einführung von Verunreinigungen erreichen. Durch professionelle Anpassung wird das Reinigungsziel mit hoher Affinität, hoher Selektivität und hoher Adsorptionskapazität erreicht.
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